All categories
Featured selections
Trade Assurance
Buyer Central
Help Center
Get the app
Become a supplier

High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD

Пока нет отзывов
High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD
High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD
High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD
High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD
High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD
High Vacuum Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (CCP Type) System- VTC-PECVD

Основные характеристики

Другие характеристики

Происхождение товара
Henan, China
Гарантированность
Один год
По индивидуальному заказу для поддержки
OEM
Наименование
MGSI
Модели
VTC-PECVD
Вес
200 кг
Название продукта
Плазменная система химического осаждения из паровой фазы
Источник питания RF
300 W, 13,56 мГц
Материал вакуумной камеры
Изготовлен из 304 нержавеющей стали
Размерность
Диаметр 300 мм * 300 м ч
Конечный вакуум
6E-7 торр
Турбо насос
700 L/s Pfeiffer Турбо насос
Опорный насос
240 л/мин (4 л/с) роторный лопастной насос
Размер держателя образца
100 мм диаметр. Для. 4 "вафли макс
Расход
16 л/мин
Соответствие
Утверждение CE

Срок выполнения заказа

Описание товара от поставщика

Минимальный объем заказа: 1 компл.
765 450,00-7 654 500,00 ₽

Варианты

Всего вариантов:
Выбрать сейчас

Транспортировка

Транспортные решения для выбранного количества в настоящее время недоступны

Защита для этого товара

Безопасные платежи

Каждый ваш платеж на Cooig.com защищен с помощью надежного SSL-шифрования и протоколов защиты данных PCI DSS

Политика возврата средств и Easy Return

Подайте заявку на возврат средств, если ваш заказ не был отправлен, утерян или были выявлены проблемы с поступившим товаром. Кроме того, для дефектных товаров доступен бесплатный местный возврат

Отправить сообщение
Начать чат
обследования